改善鍍液中鉻酸與硫酸的比例，可以使噴鋁液的分散能力、深鍍能力得到改善，從而使低電流密度區更容易鍍上鉻鍍層。一般說山東噴鋁液中硫酸含量高，會導致噴鋁液的深鍍能力變差，使得低電流密度區鍍不上鉻。通常情況下裝飾鉻鏹液的主要成分控制對電噴鋁的走位有幫助。若鍍液中硫酸含量較高，可以通=過加入碳酸鋇的方法將噴鋁液中的多余硫酸沉淀或者提高鍍液中鉻酸含量使鉻酗與硫酸比例控制在合適的范圍內。
考慮硫酸與鉻酸的比例，分散能力最佳時的硫酸、鉻酸比并非是l00：1。日本青谷薰等人認為要提高山東噴鋁噴鋁液的分散能力，就必須提高硫酸、鉻酸比，鉻酸濃度越低，硫酸、鉻酸比應更大。但是硫酸、鉻酸比大了，噴鋁層又易引起黃斑、白斑等鍍層故障。
從環保等角度講，鉻酐濃度是越低越省(包括物耗及廢水處理等)。人們曾研究過Cr03 509／L的采用復合陰離子催化的低濃度噴鋁，后來發現這種情況下噴鋁液電導差，槽電壓高，溫升快，包括Cr3+離子在內的雜質容忍量低。因此，人們認為鉻酸濃度不能低于l009／L，這種濃度的鍍液具有獲得的鍍層光亮性好、分散能力好、鍍層硬度高、電流效率高、鉻酸帶出量少(包括鉻霧損失)，但鍍液的電導率稍低(槽電壓高、電耗大)、鍍液變化快，雜質容忍量低等特點。