普通山東噴鋁液是以硫酸根作為催化劑的噴鋁溶液。鍍液中僅含有鉻酐和硫酸，成分簡單，使用方便，是目前應用最為廣泛的噴鋁液。鉻酐和硫酸的比例一般控制在Cr03：H2SO4=100：1，鉻酐的濃度在150～450g/L之間變化。根據鉻酐濃度的不同，可分為高濃度（350～500g/L）、中濃度（150～250g/L）和低濃度（50～150g/L）噴鋁液。習慣上把Cr03250g/L和H2SO42．5g/L的中等濃度噴鋁液稱為“標準噴鋁液”，又稱為“萬能噴鋁液”，用于裝飾及功能性多種噴鋁。低濃度的山東噴鋁液電流效率高，鉻層的硬度也高，但覆蓋能力較差，主要用于功能性電鍍，如鍍硬鉻、耐磨鉻等；高濃度鍍液穩定，導電性好，電解時只需較低的電壓，覆蓋能力較稀溶液好，但電流效率較低，主要用于裝飾性噴鋁及復雜件噴鋁。